레퍼런스와 샘플의 ellipsometric 차이를 비교하여 박막 두께를 측정하는 방식의 엘립소미터
측정 중 광학 부품의 이동이나 조정이 불필요
Single-Shot 측정으로도 초당 100개의 고해상도 스펙트럼
동기화된 x-y 스테이지를 이용하면 수 분 내에 넓은 면적의 필름에 대한 박막두께 측정가능
Application
웨이퍼 검사 (Wafer Inspection)
오염 검출 (Detection of Contaminants)
초박막, 중간층 두께 측정 (Thickness of Ultrathin Films, Interlayers)
투명 기판 위의 박막 두께 측정 (Thin layers of Transparent Substrates)
고전 Ellipsometry와 Reflectometry의 비교와 장점
레이저 엘립소미터와 비교했을 때 RSE는 450~900nm의 분광학 정보를 포함
분광학 정보는 박막에 입혀진 하나 이상의 파라미터(두께 및 광학 밀도와 같이 가변적인 경우)가 존재할 때 중요
참조되는 메소드는 절대적인 메소드보다 민감하다. 그러므로 박막이 초점면에 있을 때 RSE는 전통적인 엘립소미터보다 우수함
RSE - Referenced Spectroscopic Ellipsometer
Specifications
conv. Ellipsometry
Reflectometry
RSE
Film-thickness range
0.1nm - 10μm
~ 500nm - 1000μm
0.1nm - 10μm
Film thickness resolution
typ. <0.01nm
~0.5 - 1.0nm
typ. <0.01nm
Measurement speed
~ 0.5 spectra/second
~10 spectra/second
100 spectra/second
Moveable parts
YES
NO
NO
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